월 | 화 | 수 | 목 | 금 | 토 | 일 |
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09:00 - 18:00 | 09:00 - 18:00 | 09:00 - 18:00 | 09:00 - 18:00 | 09:00 - 18:00 | X | X |
1.Ion gun unit
1)System : Penning system
2)Accelerating voltage : 0 to 6kV
3)Discharge voltage : 0 to 1.5kV
4)Discharge current : 0 to 560㎂
5)Ion beam diameter : about 500㎛
6)Ar gas flow control : High accuracy Mass flow control
7)Milling rate :
-Cross-section milling : over than 500㎛/hr on Si
-Flat milling : 22㎛/hr (Illumination angle : 60˚) - Spot
2㎛/hr (Illumination angle : 0˚) - Flat
2.Stage for cross-section milling
1)X movement : ±7㎜
2)Y movement : 0 to +3㎜
3)Sample rotation : ±3˚
4)Swing angle : ±15˚, ±30˚, ±40˚ (selectable)
5)Sample swing spped : OFF + 1 speed
6)Max. sample size : 20㎜W x 12㎜D x 7㎜H
7)Milling condition control : C1 ~ C9 (selectable)
3.Stage for flat milling
1)X movement : 0 to 5㎜
2)Tilt range : 0 to +90˚
3)Sample rotation speed : 1rpm, 25rpm
4)Sample swing speed : 1rpm, 10rpm
5)Swing angle : ±60˚, ±90˚ (selectable)
6)Max. sample size : 50㎜Φ x 25㎜H (Tilt : 0˚ to 90˚)
7)Milling condition control : F1 ~ F8 (selectable)
4.Cooling Temperature Control unit
1)Cooling method : LN2 to cool the specimen via mask
2)LN2 Dewar Bottle Capacity : Approx. 800cc
3)Maintained Cooling Duration : Approx. 6 hrs
4)Temperature Cooling Time : Approx. 30 min to be attained to -50 ℃
5)Minimum setting temperature : 1 ℃
이온빔연마기는 금속,유리,세라믹,반도체 등의 표면 또는 단면을 아르곤이온빔을 조사하여 연마하는 장치로서 절단단면을 미세연마하고 넒은 평면 또한 수행하며 기존 기계연마의 경우 표면에 흠집이 남는 듯 문제가 있었지만 이온밀링의 경우 이점이 보완되어 SEM의 응용분석인 EDS 및EBSD 분석샘플준비에도 효과적으로 쓰인다.
표시되지 않은 시료전처리, 재료비 및 분석결과의 특별한 해석을 의뢰할 경우에 별도로 요금을 산정함
구분 | 항목 | 단위 | 교외 | 교내 | 가족회사(골드) | 가족회사(실버) | 가족회사(브론즈) | 비고 |
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분석의뢰 |
기기사용료 | 시간 | 100,000 | 50,000 | 30,000 | 50,000 | 70,000 | |
기기사용료 | 10분 | 20,000 | 10,000 | |||||
직접사용 |
기기사용료 | 시간 | 100,000 | 50,000 | 30,000 | 50,000 | 70,000 | |
기기사용료(10분) | 10분 | 20,000 | 10,000 |